TSV晶圆钻孔设备

TSV晶圆钻孔设备

高速高精度的设备设计 多种加工方式可选

设备特点

适用于多层复合材料、ABF、EMC等材料的激光钻孔

搭载HBC光路控制系统,支持单脉冲能量和发数的精准控制

支持光斑整形,光斑尺寸可调

高精度平台结构设计,搭载高速精密的直线电机模组和全闭环数控系统

搭载高分辨率的CCD影像定位技术

模块化设计,可根据实际需求定制部件

自主开发软件控制系统

设备规格

激光器

定制纳秒紫外激光器

视觉系统

高精度视觉定位系统

光学系统

定制HBC光路控制系统

运动平台

六轴联动,超精密运动平台

机械结构

大理石平台

性能参数

加工台面

8寸、12寸晶圆兼容(可定制)

平台重复精度

±1µm

视觉系统精度

±1um

整机加工精度

±5µm

视觉系统

500W像素/2000W像素CCD相机

光斑类型

Top-hat光斑

光路系统

高速激光控制模组

联动系统

6轴联动系统

设备尺寸

1820*1500*1850(不含三色灯)

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CMP解决方案介绍

2024 / 05 / 28

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